产品介绍
电子行业超纯水设备是用于制备电阻率≥18.5 MΩ·cm(25℃)、杂质含量极低(如TOC≤5 ppb、颗粒≤1个/ml)的高纯度水的关键系统,广泛应用于半导体、集成电路、液晶显示、光伏电池等电子元器件的生产过程中。
工艺设计
1. 预处理阶段
多介质过滤器:去除悬浮物、胶体、颗粒。
活性炭过滤器:吸附有机物、余氯。
软化器:通过离子交换树脂去除钙镁离子,防止结垢。
精密过滤器:5μm滤芯进一步截留微小颗粒。
2. 初级纯化(RO反渗透)
一级反渗透(RO):脱除98%以上的离子、有机物和微生物,产水电导率≤10 μS/cm。
二级反渗透(RO):提高脱盐率至99.5%以上。
3. 深度纯化
EDI(电去离子):结合离子交换膜和电场作用,无需酸碱再生,产水电阻率可达5-15 MΩ·cm。
混床离子交换:进一步将电阻率提升至18.5 MΩ·cm。
4. 终端精处理
UV紫外杀菌:185nm/254nm紫外线降解TOC并灭菌。
5. TOC去除系统
TOC脱除器通过紫外光的照射和氧化反应,将水中的有机污染物转化为二氧化碳和水等无害物质,从而实现有机污染物的去除。
设备特点
全自动化控制:PLC+触摸屏,实现自动运行、冲洗、报警。
零排放设计:浓水回用,符合环保要求。
模块化结构:便于扩展和维护。
低能耗设计:如能量回收装置(ERD)降低RO能耗。
技术参数
电阻率:≥18.5 MΩ·cm(25℃)
TOC(总有机碳):≤1-5 ppb
颗粒物:≤1个/ml(粒径≥0.1μm)
微生物:≤0.1 CFU/ml
离子含量:Na⁺、Cl⁻等≤0.01 ppb
溶解氧:≤1 ppb
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